根据题目要求填空：（1）硫、氮的氧化物是主要的大气污染物，对大气的影响之一是导致酸雨．用化学方程式表示NO2形成酸雨的原因：___，该反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比为___．（

　　根据题目要求填空：

　　（1）硫、氮的氧化物是主要的大气污染物，对大气的影响之一是导致酸雨．用化学方程式表示NO2形成酸雨的原因：___，该反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比为___．

　　（2）实验室常用的几种气体发生装置如图1A、B、C所示：

　　实验室可以用B或C装置制取氨气，如果用B装置，反应的化学方程式是___；如果用C装置，通常使用的药品是___（写名称）；‚图2是某学生设计收集氨气的几种装置，其中可行的是___．ƒ若用A装置与D装置相连制取并收集X气体，则X可能是下列气体中的___

　　A．CO2 B．NO C．Cl2 D．H2

　　写出A装置中反应的离子方程式___．

　　（3）氢化钠（NaH）是一种还原性极强的物质，广泛应用于工业生产．

　　氢化钠（NaH）中Na元素的化合价为+1，在高温下氢化钠（NaH）可将四氯化钛（TiCl4）还原成金属钛，该反应的化学方程式为___．

　　‚NaH能与水剧烈反应：NaH+H2O═NaOH+H2↑，NaH与液氨（NH3）也有类似反应，该反应的化学方程式为___．如果有12g NaH参加此反应，则转移电子的物质的量为___mol

　　（4）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图3所示（热源及夹持装置均已略去）：

　　SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：___；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是___．