【制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：（1）石英砂的主要成分是二氧化硅和碳在高温的条件下反应生成硅和一】

　　制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

　　（1）石英砂的主要成分是二氧化硅和碳在高温的条件下反应生成硅和一种无色的可燃性气体，请写出反应Ⅰ的化学方程式__ Si+2CO↑

　　_ Si+2CO↑

　　；

　　（2）写出反应Ⅱ的化学方程式__ SiHCl3+H2

　　_ SiHCl3+H2

　　．

　　（3）写出反应Ⅲ的化学方程式__ Si+3HCl

　　_ Si+3HCl

　　．

　　（4）整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是___．

　　（5）在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是___；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是___．