硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图1：（1）第①步制备粗硅的化学方程

　　硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图1：

　　（1）第①步制备粗硅的化学方程式为___．第④步由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为___．

　　（2）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图2所示（热源及夹持装置均已略去）：

　　①装置B中的试剂是___，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是___．

　　②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是___，装置D不能采用普通玻璃管的原因是___．

　　③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：___；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是___；整个制备过程必须严格控制___．

　　（3）下列有关硅材料的说法正确的是___（填字母）．

　　A．碳化硅硬度大，可用于生产砂纸、砂轮等

　　B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

　　C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维

　　D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

　　E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅．