【三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2高温.Si+2CO↑2C+SiO2高温.Si+2CO↑（2）上述生产流】

　　三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：

　　（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2 高温 .

　　Si+2CO↑

　　2C+SiO2 高温 .

　　Si+2CO↑

　　（2）上述生产流程中可循环使用的物质是______和______

　　（3）上述4步中，是氧化-还原反应的是（填序号）______．