某实验小组模拟工业上用SiHCl3与H2在1357K的条件下-查字典问答网
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  某实验小组模拟工业上用SiHCl3与H2在1357K的条件下制备高纯硅,实验装置如下图所示(加热及夹持装置略去):已知SiHCl3的性质如下:沸点为33.0℃;密度为1.34g•mL-1;易溶于有机溶剂;能

  某实验小组模拟工业上用SiHCl3与H2在1357K的条件下制备高纯硅,实验装置如下图所示(加热及夹持装置略去):

  已知SiHCl3的性质如下:沸点为33.0℃;密度为1.34g•mL-1;易溶于有机溶剂;能与H2O剧烈反应;在空气中易被氧化.请回答:

  (1)装置C中的烧瓶用水浴加热的优点为___

  (2)装置D中发生反应的化学方程式为___

  (3)装置E的作用为___、___、___.

  (4)相关实验步骤如下,其合理顺序为___(填序号).

  ①加热装置C,打开K2,滴加6.5mLSiHCl3;

  ②打开K1,装置A中反应一段时间;

  ③关闭K1;

  ④关闭K2;

  ⑤加热装置D至1357K.

  (5)计算SiHCl3的利用率:对装置E中液体进行分液操作,取上层液体20.00mL转移至锥形瓶中,滴加几滴酚酞溶液.用0.1mol•L-1盐 酸滴定,达到滴定终点时,消耗盐酸20.00mL.达到滴定终点的现象是___.SiHCl3的利用率为___%(保留两位小数).

  (6)设计实验,检验SiHCl3与水反应后,所得溶液中存在盐酸___.

1回答
2020-02-14 22:04
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邓万涛

  A装置制备氢气,B装置中盛放浓硫酸干燥氢气,防止SiHCl3水解,利用生成的氢气排尽装置内空气,防止安全事故的发生,再在D中反应得到高纯硅,同时生成HCl气体,D装置中四氯化碳吸收未反应的SiHCl3,氢氧化钠溶液吸收HCl,还可以防止倒吸,最后可以利用燃烧法处理氢气.

  (1)水浴加热,受热均匀,得到平稳的SiHCl3气流,

  故答案为:受热均匀,得到平稳的SiHCl3气流;

  (2)D中氢气与SiHCl3反应生成Si与HCl,反应方程式为:SiHCl3+H2 1357K .

   

2020-02-14 22:08:47

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