（2012•长宁区一模）Ⅰ．工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．（1）原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质，必须精制后才能供电解使用

　　（2012•长宁区一模）Ⅰ．工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．

　　（1）原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质，必须精制后才能供电解使用．精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl（盐酸）③BaCl2，这3种试剂添加的合理顺序是______（填序号）洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl，选用的试剂为______．（填序号）（①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇　④四氯化碳）

　　（2）如图是离子交换膜（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．

　　Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产，其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注．

　　（1）SiCl4可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl4与H2和O2反应，产物有两种，化学方程式为SiCl4+2H2+O2 高温 .

　　SiO2+4HCl

　　SiCl4+2H2+O2 高温 .

　　SiO2+4HCl

　　．

　　（2）SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用．一定条件下，在20L恒容密闭容器中的反应：

　　3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）⇌4SiHCl3（g）

　　达平衡后，H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的质量为______kg．

　　（3）实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应：

　　Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑；MnO2+4HCl（浓）△

　　MnCl2+Cl2↑+2H2O

　　据此，从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置______（填代号）和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置______（填代号）．

　　可选用制备气体的装置：

　　（4）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气，现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气______m3（标准状况）．（忽略可能存在的其他反应）

　　某工厂生产硼砂过程中产生的固体废料，主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg（CO3）2、Al2O3和Fe2O3等，回收其中镁的工艺流程如下：

　　沉淀物Fe（OH）3Al（OH）3Mg（OH）2PH3.25.212.4Ⅲ．部分阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH见上表，请回答下列问题：

　　（1）“浸出”步骤中，为提高镁的浸出率，可采取的措施有______（要求写出两条）．

　　（2）滤渣I的主要成分是______．

　　Mg（ClO3）2在农业上可用作脱叶剂、催熟剂，可采用复分解反应制备：

　　MgCl2+2NaClO3→Mg（ClO3）2+2NaCl

　　已知四种化合物的溶解度（S）随温度（T）变化曲线如图所示：

　　（3）将反应物按化学反应方程式计量数比混合制备Mg（ClO3）2．简述可制备Mg（ClO3）2的原因：______．

　　（4）按题（3）中条件进行制备实验．在冷却降温析出Mg（ClO3）2过程中，常伴有NaCl析出，原因是：______．除去产品中该杂质的方法是：______．