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  晶体硅是一种重要的半导体材料,工业上晶体硅的制备流程如下:石英①高温粗硅②Cl2450-500℃③精馏高纯SiCl4④H2高温高纯硅在高温条件下,粗硅中的杂质硼、铝、铁、磷等均能与氯气直接

  晶体硅是一种重要的半导体材料,工业上晶体硅的制备流程如下:

  石英①

  高温粗硅②Cl2

  450-500℃③精馏

  高纯SiCl4④H2

  高温高纯硅

  在高温条件下,粗硅中的杂质硼、铝、铁、磷等均能与氯气直接反应生成相应的氯化物.

  有关物质物理性质:

  物 质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5沸点/℃57.712.8-315-熔点/℃-70.0-107.2---升华温度/℃--180300162请回答下列问题:

  (1)写出工业上获得粗硅的化学方程式:__ Si+2CO↑

  _ Si+2CO↑

  .

  (2)通过精馏(类似多次蒸馏)可得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的元素是___(填写元素符号).

  (3)用SiCl4与过量干燥的H2反应制备纯硅,为保证制备纯硅实验的成功,除控制好反应温度外,还需确保实验装置中不能混入空气,原因是___.

1回答
2020-05-02 19:02
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侯守琴

  由制备四氯化硅的实验流程可知,A中发生二氧化锰与浓盐酸的反应生成氯气,B中饱和实验水除去HCl,C装置中浓硫酸干燥氯气,D中发生Si与氯气的反应生成四氯化硅,由信息可知,E装置制取氢气,F可防止倒吸,最后氢气还原SiCl4,

  (1)碳能与二氧化硅反应生成硅单质,化学反应方程式:2C+SiO2 高温 .

   

2020-05-02 19:05:41

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