光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键产物，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（）A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2B.该物质可稳定存在于碱

　　光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键产物，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（）

　　A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2

　　B.该物质可稳定存在于碱性溶液中

　　C.1mol该物质最多可与3molH2发生加成反应

　　D.该物质可经过缩聚反应制得