硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图：石英砂

　　硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：

　　（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图：

　　石英砂焦炭

　　高温粗硅HCl

　　573K以上SiHCl3（粗）精馏

　　SiHCl3（纯）H2

　　1357K高纯硅

　　①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___．

　　②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式___．

　　③H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是___．

　　④已知2gH2在O2中完全燃烧生成水蒸气时放出241.8kJ的热量．写出H2在O2中完全燃烧生成水蒸气的热化学方程式：___．

　　（2）下列对硅材料的说法正确的是___（填字母）．

　　A．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

　　B．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维

　　C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

　　D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

　　（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，通入二氧化碳气体，振荡，观察．

　　①实验现象是：___．②写出发生反应的离子方程式：___．